打破日本壟斷 三星與東進(jìn)半導(dǎo)體合作開發(fā)成功EUV光刻膠

            

                
                來源：快科技
            

            
EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機(jī)之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場也主要被日本廠商壟斷，現(xiàn)在三星與韓國半導(dǎo)體廠商東進(jìn)合作開發(fā)成功EUV光刻膠，已經(jīng)通過驗證。東進(jìn)半導(dǎo)體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR（光刻膠）可靠性測試。
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消息人士稱，東進(jìn)半導(dǎo)體在其位于京畿道華城的工廠開發(fā)了EUV PR，并在三星電子華城 EUV生產(chǎn)線上對其進(jìn)行了測試，并已通過可靠性測試。
PR，也稱為光刻膠，是半導(dǎo)體曝光工藝中的關(guān)鍵材料。
它應(yīng)用于芯片上，當(dāng)用半導(dǎo)體曝光設(shè)備照射光時，會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并改變物理性質(zhì)，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路，只留下必要的部分。
2019年，日本與韓國爆發(fā)爭議之后曾經(jīng)限制三種重要的半導(dǎo)體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發(fā)。
雖然已經(jīng)通過了測試，不過三星是否會在EUV生產(chǎn)線上立即使用東進(jìn)半導(dǎo)體的EUV光刻膠還不確定，三星及東進(jìn)拒絕表態(tài)。

                         
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